場發射掃描電子顯微鏡Sigma

 　　蔡司西格瑪家族

　　蔡司SIGMA FE-SEM用于高質量成像和高級分析顯微鏡

　　蔡司Sigma 300具有**的價格和性能。借助ZEISS Sigma 500一*的EDS幾何結構，可以快速，方便地完成元素分析。依靠精確，可重復的結果–每次都能從任何樣品中獲得結果。

　　靈活的檢測4步驟工作流程，高級分析

　　將場發射SEM(FE-SEM)技術與分析相結合。受益于久經考驗的雙子座電子光學器件。從多種檢測器選項中進行選擇：材料科學中的圖像顆粒，表面和納米結構，研究半導體或醫療設備，地質或生物樣品。Sigma的半自動4步工作流程可節省時間：結構化成像和分析程序并提高生產率。研究和工業實驗室中所有學科的FE-SEM用戶現在都受益于ZEISS Sigma 500在1 kV下1.3 nm的分辨率和更好的可用性。

　　靈活檢測清晰圖像

　　使用*新的檢測技術根據您的需求定制Sigma，并對所有樣品進行表征。

　　使用環形背向散射檢測器(aBSD)表征成分，晶體學和表面形貌。在所有真空條件下，它都能提供出色的低kV圖像。受益于更高的靈敏度，更高的信噪比和更快的速度。

　　享受新一代的二次電子(SE)檢測器。在可變壓力模式下受益于Sigma的C2D和VPSE檢測器：在低真空下工作，您可以得到清晰的圖像，對比度*高可提高85%。

　　自動化并加快工作流程

　　4個步驟的工作流程使您可以控制Sigma的所有功能。受益于快速的成像時間并節省了培訓時間-尤其是在多用戶環境中。

　　首先，瀏覽樣品，然后設置*佳成像條件。

　　接下來，利用感興趣區域(ROI)自動獲取多個樣本中的圖像。最后，使用工作流程的步對結果進行上下文可視化。

　　最后，SmartSEM Touch收集并以交互式地圖的形式顯示您的數據，以便您可以理解樣品。

　　執行高級分析顯微鏡

　　結合掃描電子顯微鏡和元素分析：Sigma一*的EDS幾何形狀可提高您的分析效率，尤其是在對光束敏感的樣品上。

　　以一半的探針電流和兩倍的速度獲得分析數據。

　　在您的FE-SEM中實現完整，無陰影的分析。使用8.5 mm的短分析工作距離和35°的起飛角，可從中獲利。

　　基于成熟的雙子座技術

　　Gemini物鏡的設計結合了靜電和磁場，以*大限度地提高光學性能，同時將對樣品的電場影響降至*低。即使在具有挑戰性的樣品(例如磁性材料)上，也可以實現出色的成像。

　　Gemini Inlens檢測概念可通過檢測二次(SE)和/或背向散射(BSE)電子來*大程度地縮短成像時間，從而確保有效的信號檢測。

　　Gemini光束增強器技術可確保探頭尺寸小和信噪比高。

　　靈活檢測清晰圖像

　　使用的檢測技術表征所有樣品。

　　使用ETSE和Inlens檢測器獲得高真空模式的地形，高分辨率信息。

　　使用VPSE或C2D檢測器在可變壓力模式下獲得清晰的圖像。

　　使用aSTEM檢測器產生高分辨率的透射圖像。

　　使用aBSD檢測器研究成分和形貌。

　　借助新的自動擺動功能，輕松快速地對準光圈。

　　SmartEDX

　　發現嵌入式能量色散X射線光譜分析

　　如果僅憑SEM成像不足以了解您的樣品，則可以使用嵌入式EDS在SEM中進​​行微分析。使用針對低壓應用優化的解決方案來獲取空間解析的元素化學信息。

　　氮化硅窗口具有出色的透射率，可優化常規微分析應用并檢測輕元素的低能X射線

　　工作流引導的圖形用戶界面提高了多用戶環境中的易用性和可重復性

　　蔡司工程師提供的全面服務和系統支持為您提供一站式安裝，預防性維護和保修服務

　　拉曼成像和掃描電子顯微鏡

　　全面集成RISE的好處

補充材料的表征并添加拉曼光譜成像。從樣品中獲得化學指紋，并通過共焦拉曼成像功能擴展蔡司Sigma 300。

　　識別分子和晶體學信息

　　進行3D分析并將SEM成像與拉曼映射和EDS數據關聯起來(如果適用)

　　集成的RISE使您可以利用一*的SEM和拉曼系統