離子研磨儀 IM4000II

高效率的截面研磨

IM4000II配備截面研磨能力達到500 µm/h*1以上的高效率離子槍。因此，即使是硬質材料，也可以高效地制備出截面樣品。

• *1

• 在加速電壓6 kV下，將Si片從遮擋板邊緣突出100 µm并加工1小時的深度

    樣品：Si片（2 mm厚）
                                                                              加速電壓：6.0 kV
                                                                              擺動角度：±30°
                                                                              研磨時間：1小時

截面研磨時如果擺動的角度發生變化，加工的寬度和深度也會發生變化。下圖為Si片在擺動角度為±15°下進行截面研磨后的結果。除擺動角度以外，其他條件與上述加工條件一致。通過與上面結果進行對比后，可發現加工的深度變深。
對于觀察目標位于深處的樣品來說，能夠對樣品進行更快速的截面研磨。

樣品：Si片（2 mm厚）
                                                                    加速電壓：6.0 kV
                                                                    擺動角度：±15°
                                                                    研磨時間：1小時

復合型研磨儀

• *1 將Si片從遮擋板邊緣突出100 µm并加工1小時的深度。

• *2 需與主機同時訂購。冷卻溫度控制功能在使用時，部分功能可能使用有限。