化學氣相沉積CVD

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公司名稱優適（北京）科技有限公司
品牌
型號MPCNT&MPCN
所在地北京市
廠商性質其他
更新時間2026/3/13 10:48:06
訪問次數68

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MPCNTMPCNT-Premium簡介MPCNT化學氣相沉積CVD是使用乙醇作為碳源的微型、簡化碳納米管（CNT）合成系統

化學氣相沉積CVD 產品信息

MPCNT
MPCNT-Premium

簡介

MPCNT化學氣相沉積CVD 是使用乙醇作為碳源的微型、簡化碳納米管（CNT）合成系統。乙醇是用于生產碳納米管CNT的非常方便的材料。它不需要像甲烷或乙炔氣這樣的可燃氣瓶，并且允許在任何地方進行碳納米管CNT合成實驗。

MPCNT化學氣相沉積CVD系統不需要使用還原氣（氫氣）來還原催化劑，因為乙醇還具有很強的金屬還原作用。由于合金中的Ni，Fe或Co催化元素作為催化顆粒被隔離，乙醇的還原作用使CNT可以直接在NiCu，SUS等合金材料上生長，而無需沉積催化劑薄膜。

使用MPCNT化學氣相沉積CVD系統，可以在各種類型的基板（例如硅，石英，不銹鋼，金屬和陶瓷）上生長高度結晶、垂直排列的碳納米管CNT。設備的外形尺寸與個人計算機一樣緊湊。操作簡單，整個過程僅需20至30分鐘。透明的玻璃室可以直接觀察碳納米管CNT的生長過程。該系統適用于大學實驗室的碳納米管CNT合成實驗。

*注意：在碳納米管CNT生長之前，應在基材上沉積一層薄的催化劑膜。如果客戶沒有催化膜形成系統（例如真空沉積設備或濺射系統），建議使用我們的MPCNT-Premium化學氣相沉積CVD 系統，它是一個完整的系統，涵蓋了從催化劑形成到碳納米管CNT生長或功能*的一系列過程真空沉積設備MPVAP。我們也提供具有催化膜的基材（消耗品）。

臺式化學氣相沉積CVD系統的基本模型旨在讓研究人員僅使用乙醇液體（不使用任何烴類氣體）作為碳源，在襯底（硅、石英、金屬、陶瓷）上生長垂直排列的碳納米管CNT，從而獲得高度結晶的碳納米管CNT。臺式化學氣相沉積CVD系統可以安裝在任何地方，即使在無法儲存氫氣（例如C2H2或C2H4）的實驗室中。

特征

配備乙醇注入裝置，不需要易燃的烴類氣體
碳納米管CNT生長僅需幾分鐘，整個操作過程不到30分鐘
結構緊湊、操作簡單、高質量的碳納米管CNT

技術參數

簡介

臺式MPCNT-Premiun化學氣相沉積CVD系統的高級型號配備了多氣體引入單元和催化劑前體加熱燈絲，設計用于在粉末和垂直排列的薄膜中生長長（>200μm）的碳納米管，以及鎳箔上的石墨烯薄膜。

小尺寸、高性能MPCNT-Premiun化學氣相沉積碳納米管CNT合成系統是MPCNT-Basic的增強版本，具有的功能，例如催化劑前體加熱機制和多種氣體引入機制。它能夠在基材上大量合成垂直排列的碳納米管CNT和粉末碳納米管CNT。

催化前體加熱機制是MPCNT-Premiun化學氣相沉積CVD系統的標準功能。使用加熱的燈絲使催化劑前體升華使得催化劑能夠沉積在基底或粉末狀催化劑載體材料上，因此不需要單獨的催化劑形成設備。這使MPCNT-Premiun化學氣相沉積CVD系統成為一個完整的碳納米管CNT合成系統，可同時實現催化劑的形成和碳納米管CNT的形成。

而且，加熱的燈絲會大量生成活化自由基，并加速碳納米管CNT的形成。因此可以容易地生成長長度的碳納米管CNT（長度為50μm-2mm）。

多種氣體引入機制也是MPCNT-Premiun化學氣相沉積CVD系統的標準功能。該系統可以引入烴氣（甲烷、乙烯或乙炔）和氫氣，以及乙醇液體。合成的碳納米管CNT的種類根據原料氣體的種類而不同。例如，乙炔氣，催化前體和粉末狀催化劑載體材料的組合產生粉末形式的長碳納米管。乙烯氣體，Fe/ Co催化膜和少量水的結合產生單壁碳納米管(Single-WalledCarbon Nanotubes,SWCNTs)。乙醇和鐵粉的結合產生碳納米線圈。