稠化油壓裂液分散機 化工研磨分散機

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此款研磨分散機14000轉，比普通的研磨機的速度達到4-5倍以上，分散乳化均質研磨效果非常好，可以達到納米級。另外研磨式分散機采用全新設計，將IKN高剪切膠體磨和高剪切分散機一體化的設備。

          
壓裂液分為兩種類型：*種是以水作分散介質的水基壓裂液如稠化水、水凍膠、水包油乳化液、水基泡沫和某些酸性溶液等。第二種是以礦物油作分散介質的油基壓裂液如稠化油、油包水乳化液、油基泡沫等。壓裂液的性能要求：黏度高，潤滑性好，濾失量小，低摩阻，對被壓裂的流體層無堵塞及損害，對流體礦無污染，熱穩定性及剪切穩定性能好、低殘渣、配伍性好、破膠迅速、貨源廣，便于配制，經濟合理。油層水力壓裂的過程是在地面采用高壓大排量的泵，利用液體傳壓的原理，將具有一定粘度的液體（通常稱之為壓裂液），以大于油層的吸收能力的壓力向油層注入，并使井筒內壓力逐漸升高，從而在井底憋起高壓，當此壓力大于井壁附近的地應力和地層巖石的抗張強度時，便在井底附近地層產生裂縫：繼續注入帶有支撐劑的攜砂液，裂縫向前延伸并填以支撐劑，關井后裂縫閉合在支撐劑上，從而在井底附近地層內形成具有一定幾何尺寸和高導流能力的填砂裂縫，是井達到增產增注的目的。其中的支撐劑又稱為壓裂液。壓裂液可分為：A 水基壓裂液（稠化水壓裂液，水凍膠壓裂液，水包油壓裂液，水基泡沫壓裂液）；B 油基壓裂液（稠化油壓裂液，油凍膠壓裂液，油包水壓裂液，油基泡沫壓裂液）。C乳化壓裂液；

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CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

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CMD2000系列研磨分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

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