場發射掃描電子顯微鏡具有較廣泛 地適用性，可以在短時間內為材料研究人員提供的成像質量。當Apreo的電子束打開，形貌和成分襯度可以同時被鏡筒內探溉系統呈現：無需繁瑣操作，即可快速探索并獲取樣品各方面信息。在高放大倍率下，Apreo的長工作距離（如10mm分析工作距離）也能表現出杰出的分辨性能。

場發射掃描電子顯微鏡革命性的復合透鏡設計結合了靜電和磁力浸沒技術，可產生*的分辨率和信號選擇。這使得Apreo SEM成為研究納米顆粒，催化劑，粉末和納米器件的平臺，同時不會影響磁性樣品的性能。

Apreo SEM得益于*的鏡頭內反向散射檢測，即使在傾斜，短工作距離或敏感樣品上也能提供出色的材料對比度。新型復合透鏡通過能量過濾進一步改善了對比度，并為絕緣樣品的成像增加了電荷過濾。可選的低真空模式現在具有500 Pa的大腔室壓力，即使是較苛刻的絕緣體也能成像。
憑借所有這些選項，包括復合終鏡頭，*的檢測和靈活的樣品處理，Apreo SEM的性能和多功能性將在未來許多年內滿足您的研究挑戰。
 

新型Apreo掃描電子顯微鏡（SEM）可為各種材料（包括納米顆粒，金屬，復合材料和涂層）提供高性能，并結合創新功能，以獲得更好的分辨率，對比度和易用性。